マイクロメカトロニクス実装技術研究会 2017年度 第1回 公開研究会『ナノインプリントの最新動向と大面積デバイス、実装応用への挑戦』
主催：マイクロメカトロニクス実装技術研究会
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◆ご案内
ナノインプリント技術は、光リソグラフィーの限界を大きく超える可能性をもつ微細パターン形成法として大きな注目を集め、活発に研究開発が進められました。技術が提唱されて20年が経過しようとする現在、ナノインプリント技術の半導体製造プロセスへの適用が視野に入るとともに、大面積へのナノ構造形成方法としても新たな発展を見せています。
当研究会では、ナノインプリント技術とその実装への応用に関して、主要なテーマの一つとして取り組んできました。今回は、ナノインプリント技術の基礎的な部分から、最近の技術動向までをご紹介いただきます。微細化の開発状況に加えて、大面積でのパターン形成とそのためのモールド作製技術や、ポリイミドの微細成形と実装配線への適用可能性についてもご紹介いただきます。
皆さまの積極的なご参加をお待ちしております。
開催概要(クリックすると非表示にできます。再度クリックすると表示されます)
| 開催日時 |
2017年11月16日（木） 13：30～17：10 |
| 会 場 |
回路会館 地下1階会議室
ＪＲ中央線西荻窪駅下車徒歩約７分
〒167-0042 東京都杉並区西荻北3-12-2 TEL.03-5310-2010
アクセス
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| テーマ |
ナノインプリントの最新動向と大面積デバイス、実装応用への挑戦
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| 会 費 |
| 正会員： |
5,000円 |
| 学生会員： |
1,000円 |
| シニア会員： |
3,000円 |
| 名誉会員： |
1,000円 |
| 賛助会員の社員： |
5,000円 |
| 賛助会員の社員(クーポン使用)： |
無料(注) |
| 非会員一般： |
10,000円 |
| 非会員学生： |
3,000円 |
＊ 参加券等の発行はしておりません。
＊ 参加費は当日会場受付にてお支払いください。現金でのお支払いをお願いいたします。
(釣り銭のないようにお願いします)
＊ 事務処理の簡素化のため、事前の請求書発行を行っておりませんので、
ご理解とご協力をお願いします。
＊ クーポン（賛助会員向け）は1枚／1口まで利用可能です。クーポン番号等の全項目をご記入の上、ご持参ください。
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| 定 員 |
100名(先着申込順 定員になり次第締切ます)
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| プログラム |
13：00 受付開始
13：30 開催挨拶（高木 秀樹 主査）
13：35～14：35
「ナノインプリント技術の進展」
産業技術総合研究所 廣島 洋
14：35～15：20
「MRT社(ドイツ)のナノインプリント用樹脂の開発状況」
株式会社エイチ・ティー・エル 大久保 靖
(15：20～15：30 休憩)
15：30～16：15
「ナノインプリント用モールドと超撥水フィルムへの展開」
綜研化学株式会社 坂田 郁美
16：15～17：00
「ナノインプリント技術の配線応用に向けたプロセスとモールド設計」
産業技術総合研究所 尹 成圓
17：00～17：10 フリーディスカッション
17：10～18：00 技術交流会（名刺交換、情報交換等）
※プログラムは変更になることがあります。ご了承ください。
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| 問い合わせ先 |
一般社団法人エレクトロニクス実装学会
マイクロメカトロニクス実装技術研究会
E-mail：mems_kanji\jiep.or.jp
（メールアドレスは\を@に置き換えてください）
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マイクロメカトロニクス実装技術研究会 「第1回 公開研究会」参加申込みフォーム
注意事項
- 公開研究会の参加申込みフォームです
- 複数人にて応募する場合は1件ずつ登録ください
- 定員になり次第、応募を締め切ります
- （必須）は必須項目です。入力しないと送信できません
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入力後の再確認をお願いいたします。
＊ 技術交流会は無料ですが、準備の都合上、ご出欠予定を該当欄に記入してください。
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※[送信]をクリックすると申し込みが完了し、ご入力いただいたメールアドレスに確認メールが送信されます。
送信完了画面が表示されるまで、少し時間がかかります。そのままお待ちください。
受付完了のメール文をプリントアウトして当日お持ちください。
