(TC18)マイクロメカトロニクス実装技術研究会 「第1回 公開研究会」(2017年11月16日13:30~於回路会館)


マイクロメカトロニクス実装技術研究会 2017年度 第1回 公開研究会『ナノインプリントの最新動向と大面積デバイス、実装応用への挑戦』

主催:マイクロメカトロニクス実装技術研究会
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◆ご案内

ナノインプリント技術は、光リソグラフィーの限界を大きく超える可能性をもつ微細パターン形成法として大きな注目を集め、活発に研究開発が進められました。技術が提唱されて20年が経過しようとする現在、ナノインプリント技術の半導体製造プロセスへの適用が視野に入るとともに、大面積へのナノ構造形成方法としても新たな発展を見せています。

当研究会では、ナノインプリント技術とその実装への応用に関して、主要なテーマの一つとして取り組んできました。今回は、ナノインプリント技術の基礎的な部分から、最近の技術動向までをご紹介いただきます。微細化の開発状況に加えて、大面積でのパターン形成とそのためのモールド作製技術や、ポリイミドの微細成形と実装配線への適用可能性についてもご紹介いただきます。
皆さまの積極的なご参加をお待ちしております。

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マイクロメカトロニクス実装技術研究会 「第1回 公開研究会」参加申込みフォーム

注意事項

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