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主 題： |
「自己組織化によるナノ材料創製：実用化へ一直線」 |
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主 催： |
エレクトロニクス実装学会 材料技術委員会 ナノテク材料研究会 |
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日 時： |
2006年9月15日（金） 13：30～16：45 |
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場 所： |
キャンパス・イノベーションセンター 国際会議室
〒108-0023 東京都港区芝浦3-3-6
http://www.mext.go.jp/b_menu/houdou/15/07/03073103/004.pdf (PDF)
JR京浜東北線・山手線田町駅より徒歩１分
都営三田線・浅草線三田駅より徒歩５分 |
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講 演： |
| 13：30 - 14：30 |
『感光性表面修飾剤による自己組織化単分子膜のパターニング』
山口 和夫（神奈川大学） |
| 14：30 - 15：30 |
『ブロックコポリマーの自己組織化によるナノリソグラフィーと電子デバイス作成への応用』
浅川 鋼児（東芝) |
| 15：45 - 16：45 |
『分子集合体から創出されるエレクトロニクス素材』
中川 勝（東京工業大学) |
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参加要領： |
| 1. 定員 | 100名 |
| 2. 参加費 |
| 会 員: | 6,000円 |
| 非会員: | 8,000円 |
| 学 生: | 無料 |
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| 3. 申込方法 |
下記申込書にご記入の上，E-mailまたはFAXでお申し込み下さい。
＊銀行振込の場合，
三菱東京ＵＦＪ銀行土浦支店 普通預金No.3977732
名義「ナノテク材料研究会」
（振込手数料は振込人にてご負担ください）
請求書の発行はできません。
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申込先： |
〒305-0841
茨城県つくば市御幸が丘25
JSR(株) 筑波研究所
大月敏敬
TEL: 029-856-2878
FAX: 029-856-1477
E-mail: toshihiro_ootsuki@jsr.co.jp
FAX. 029-856-1477
Email toshihiro_ootsuki@jsr.co.jp
ナノテク材料研究会第５回公開講演会
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